產品介紹
PF-300T Altair
12英寸 Thermal ALD設備
產品介紹
PF-300T Altair 系列是我公司自主研發的熱原子層沉積(Thermal Atomic Layer Deposition)設備,以高產能PEALD設備核心技術為基礎,針對金屬薄膜沉積的特殊性,對反應腔模塊及關鍵部件優化設計,實現成本更低,純度更高的金屬薄膜的沉積,可用于沉積AlOx/AlN/SnOx/TiN等多種金屬薄膜材料。在7nm及以下制程中有著廣泛的應用。
產品特點
PF-300T Altair
12英寸 Thermal ALD設備
產品特點
- 理想的熱原子層沉積系統
- 更快速的脈沖及吹掃,實現更高的產能
- 精準的化學源劑量控制,實現工藝長期穩定性
- 獨特的溫控設計,實現更高純度的薄膜
- 維護簡便,易耗件生命周期長,清洗成本低