NF-300H Astra
12英寸PEALD設備

產品介紹

NF-300H Astra 系列是我公司自主研發的原子層沉積（Atomic Layer Deposition）設備，可配置3個6站的反應腔，其ALD反應腔搭載在高產能的PECVD平臺上，滿足了對設備產能的需求，現已應用于先進的芯片制造及先進封裝（TSV）領域，其工藝廣泛用于多技術節點及更先進制程邏輯芯片以及存儲器芯片制程?，F可提供具有高質量的PEALD，如SiO2、SiN薄膜，并陸續開發金屬氧化物及金屬氮化物等薄膜工藝。

NF-300H Astra
12英寸PEALD設備

產品特點
- ALD薄膜在高寬比（20:1）情況下臺階覆蓋率可達到95%
- 優異的生產成本（CoO）及性能指標
- 具有優異的均勻性和優異的保型性
- 可搭載1-3個PM，每個PM可配置6個stations
- 實現高產能
- 通過S2安全認證和F47標準檢驗