產品介紹
PF-300T Astra
12英寸 PEALD設備
產品介紹
PF-300T Astra 系列是我公司自主研發的原子層沉積（Atomic Layer Deposition）設備，ALD反應腔搭載在高產能的PECVD平臺上，滿足了對設備產能的需求，現已應用于先進的芯片制造及先進封裝（TSV）領域，同時針對14nm以下前道工藝（FEOL）進行研制開發?，F可提供具有高質量的PEALD，如SiO2、SiN薄膜，并陸續開發金屬氧化物及金屬氮化物等薄膜工藝。
產品特點
PF-300T Astra
12英寸 PEALD設備
產品特點
- ALD薄膜在高寬比（20:1）情況下臺階覆蓋率可達到95%
- 優異的生產成本（CoO）及性能指標
- 具有優異的均勻性和優異的保型性
- 可搭載1-3個PM，每個PM可配置2個stations
- 通過S2安全認證和F47標準檢驗
