產品介紹
NF-300H TEOS
PECVD設備
產品介紹
NF-300H TEOS 設備由拓荊科技承擔了國家十三五重大專項,自主研發,擁有自主知識產權。應用于128層及以上3D NAND閃存芯片的生產??蓪崿FSiO2、SiN(ONON)多層薄膜堆疊結構和Thick TEOS 薄膜,在均勻性、顆粒度、粗糙度、應力及產能等方面實現技術突破,設備性能指標達同類產品水平。
產品特點
NF-300H TEOS
PECVD設備
產品特點
- 高產能設計和可實現多種薄膜沉積的快速切換
- 可實現多層SiO2,SiN(ONON)堆疊功能
- 滿足300-600℃高溫沉積需求
- PM腔內可進行多片wafer沉積和wafer自動升降旋轉功能
- 通過S2安全認證